将Sensirion质量流量控制器用于表面涂覆和处理工艺可同时保证处理速度和质量。
控制速度快，动态量围广
真空沉积和深反应离子刻蚀(DRIE)等现代半导体加工工艺需要对各种气体进行快速控制。我们的质量流量控制器能够非常快速地控制/切换工艺气体并同时保证质量。
我们的传感器如何发挥作用
清洁处理
采用深反应离子刻蚀(DRIE)工艺对晶圆表面做清洁处理时，工艺气体的更换必须非常迅速。Sensirion质量流量控制器具有超快响应速度，可提高处理质量。
超快处理速度
采用深反应离子蚀刻(DRIE)工艺处理晶圆时，必须迅速更换不同工艺气体。我们的质量流量控制器具有超短响应时间，可加快工艺速度。
长期稳定性
质量流量控制器可长期保持高度稳定性，因此系统无需暂停运行以重新校准。
为什么选择Sensirion
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