Die Implementierung von Sensirion MFCs in Prozesse zur Oberflächenbeschichtung und -behandlung gewährleistet eine hohe Oberflächenqualität bei hoher Prozessgeschwindigkeit.
Schnelle Regelgeschwindigkeit für weiten Bereich
Für moderne Halbleiterbearbeitungstechniken wie Vakuumbeschichtung und DRIE ist eine schnelle Regelung verschiedener Gase nötig.
Wie unsere Sensoren einen Unterschied schaffen
Saubere Bearbeitung
Für die saubere Oberflächenbearbeitung von Wafern mit DRIE (deep reactive ion etching) müssen verschiedene Prozessgase mit hoher Geschwindigkeit gewechselt werden. Durch die schnelle Reaktionszeit der Sensirion MFC steigt die Qualität dieser Prozesse.
Hohe Prozessgeschwindigkeit
Bei der Bearbeitung von Wafern mit DRIE (deep reactive ion etching) müssen verschiedene Prozessgase mit hoher Geschwindigkeit gewechselt werden. Durch die schnelle Reaktionszeit unserer MFC steigt die Geschwindigkeit dieser Prozesse.
Langzeitstabilität
Durch die hohe Langzeitstabilität müssen Anlagen nicht gestoppt werden, um die MFCs erneut zu kalibrieren.
Darum sollte Sensirion Teil deiner Lösung sein
Schneller Masseflussregler
Führende Anbieter im Bereich der Halbleiterbearbeitung mittels DRIE setzen bereits seit Jahren auf die schnellen, hochgenauen und zuverlässigen Masseflussregler von Sensirion.
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